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パターン付きウェーハ

パターン付きウェーハ外観

  • Line&Space , Contact Hole
  • I-Line, KrF , ArF , ArF液浸
  • CMP TEST (Cu, W, STI, ILD etc.)-754 , 854 , 454Mask等、各種Novati Mask対応
  • Plasma Damage TEG

*最小線幅32nm迄対応、マスク製作から対応可能です。

*要打合せ。詳細ご相談ください。

Pattern Wafer Products

Cu CMP 評価用ウェーハ

サイズ 300mm
各種グレード対応 Anneal/ Cu EP 7KA Fill / Cu seed 1K / TaN 250A / Etch 3K (100nm Trench) / TEOS 3K / Si

W CMP 評価用ウェーハ

サイズ 300mm
各種グレード対応 W 3K 〜 8K Fill / Ti:150A / TiN:150A Etch 3K ~ 8K / (130nm Via)PE-TEOS 2K / Si

STI CMP 評価用ウェーハ

サイズ 300mm
各種グレード対応 HDP 6K Fill / Si etch 3.5K (130nm Trench) SiN 2K / Pad Ox 100A / Si

TSV(Through Silicon Via) ウェーハ

サイズ 300mm
各種グレード対応 EP Cu 60um Fill / Cu seed 2um / TaN 600A
/ PE-TEOS 6K / Si Via etch 50um / Si

Deep Si Etch(50um) via ウェーハ

サイズ 300mm
各種グレード対応 Si Via etch 50um / Si

Double Patterning ウェーハ

サイズ 300mm
各種グレード対応 Etch(30nm Trench) 300A Poly Si +/- 5% 20A Sac Ox / S

*上記以外の仕様も対応可能です。ご希望の仕様をご指定ください。

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